
三级结构 |
磨头结构 |
转速 |
线速度 |
模块头 |
密封类型 |
产品效果 |
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国内连续式胶体磨 |
沟槽是直线,同级的沟槽深度一样 |
沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下 |
目前是不通过变频器来调节,若通过变频调节,他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM(这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。) |
大约在10-15M/S |
只有一种模块头 |
单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁 |
粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差 |
IKN连续式胶体磨 |
沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅 |
斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大 |
可以通过变频调速,转速可达7890/13789RPM ,通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小) |
23-40 M/S |
可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块 |
双机械密封,易于清洗,将泄漏降至,可24小时不停运转 |
可实现1-10微米小粒径材料加工 |
连续式胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液,超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,CM在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用几何机构的研磨定转子,的表面处理和材料,可以满足不同行业的多种需求。
连续式胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。